共焦拉曼顯微鏡

Examine R 高性能共焦拉曼顯微鏡

正置ExamineR （含Raman Mapping）

      Examine R特別適合于生命科學，地質(zhì)學，納米科學，和半導體，刑偵應用?？梢宰鑫^(qū)化學分析。

       Examine R拉曼顯微鏡采用Olympus顯微鏡，匹配DeltaNu高性能拉曼光譜儀，構(gòu)成一套高性能的拉曼顯微鏡，由于同時具有非常合理價格的優(yōu)勢，成為業(yè)內(nèi)高性能價格比拉曼顯微鏡的者

圖片：帶遮光系統(tǒng)的Examine R高性能拉曼顯微鏡

本系統(tǒng)可以方便的更換532，785，1064nm激光模組和光譜探測模組，用戶不會像某些廠家的產(chǎn)品遇到繁瑣的更換激光，光柵或探測器的問題。

  產(chǎn)品特點：

1. 532，785，1064nm激光模組

2. 激光功率控制

3. 高光譜分辨率

4. 全固化光路，超級穩(wěn)定

5. 1064nm 一次攝譜范圍200-2000波數(shù)（匹配高性能制冷InGaAs CCD）

6.  785nm一次攝譜范圍200-2000波數(shù)（或100-2000波數(shù)），匹配高性能近紅外靈敏制冷CCD

7. 532nm一次攝譜范圍200-3400波數(shù)，匹配高性能制冷CCD

8. 顯微鏡空間分辨率達到衍射限

9. 自動X-Y-Z平臺，實現(xiàn)高精度共焦拉曼影像掃描（Raman Mapping）

10. 顯微鏡附帶高性能影像CCD用于可視化調(diào)節(jié)

11. 可選3D影像重構(gòu)功能。

12. 可做溶液環(huán)境下顯微拉曼

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資料舉例：

• ExamineR產(chǎn)品樣本
• ExamineR測試半導體晶片缺陷（簡介：zui近幾年，微電子器件的加工尺度已經(jīng)從45nm減小到32nm, 由于芯片刻蝕，晶片轉(zhuǎn)運等工藝過程均可能帶來納米尺度的污染從而導致器件失效，分析缺陷點包括金屬微粒分析，有機或無機微粒分析。 顯微拉曼是一種非常有效的分析晶片材料結(jié)構(gòu)和污染微粒組份與空間分布的手段，從而為用戶提供了分析污染來源并改善工藝，提升良品率的實驗平臺）
• ExamineR測試非晶態(tài)硅用于太陽能電池研究（采用顯微拉曼光譜法測試太陽能電池材料，可以用于優(yōu)化工藝參數(shù)，從而提升太陽能電池的轉(zhuǎn)化效率和使用壽命）
• ExamineR測試礦石包裹體及拉曼影像（簡介：高靈敏度顯微拉曼測試礦石包裹體內(nèi)含的微小固，液，氣相的組份為用戶提供了一個方便快捷，幾乎無需樣品制備的實驗手段）